Подложки фосфида галлия GaP

Подложки фосфида галлия производятся совместно с АО "НИИ МВ", которое является единственным в стране предприятие, выращивающим исходные слитки этого материала.  
Исходные монокристаллы фосфида галлия:

Легирующая примесь

нелегированный

S

Zn

Тип проводимости

n

n

p

Концентрация носителей, см -3

≤1x1016

1x1017 - 2x1018

2x1017 - 2x1018

Подвижность, м2/В.с

≥100

≥60

≥60

Плотность дислокаций, см-2

≥2x105

≥2x105

≥2x105

 

Пластины (подложки) фосфида галлия GaP:

Диаметр, мм

50.8 ± 0.3

76.2 ± 0.3

Толщина, мкм

300 ± 15

400 ± 15

Ориентация поверхности

(100)

(111)

Точность ориентации

± 0.5°

± 0.1°

Отклонение от точной ориентации

(1 - 10)± 0.1° в заданном направлении

Базовый и дополнительный срезы

по стандарту SEMI M9, US SEMI и E/J SEMI

Обработка поверхностей:

лицевая сторона
обратная торона

полированная epi-ready

шлифованно-травленная

Упаковка

индивидуальная или групповая

 

Возможна поставка монокристаллов и пластин с нестандартными параметрами по запросу заказчика


 

Для получения более подробной информации просим связываться по нашим контактным телефонам или почте